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光学镀膜技术
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光学镀膜技术

  • 发布时间:2020-09-22

【概要描述】  海泰新光拥有电子束蒸发(E-Beam)、离子束辅助沉积(IAD)、磁控溅射(Sputtering)和离子束溅射(IBS)等镀膜技术,能够针对产品的实际应用需求,为客户制订最经济有效的镀膜方案。

光学镀膜技术

【概要描述】  海泰新光拥有电子束蒸发(E-Beam)、离子束辅助沉积(IAD)、磁控溅射(Sputtering)和离子束溅射(IBS)等镀膜技术,能够针对产品的实际应用需求,为客户制订最经济有效的镀膜方案。

  • 发布时间:2020-09-22

  海泰新光拥有电子束蒸发(E-Beam)、离子束辅助沉积(IAD)、磁控溅射(Sputtering)和离子束溅射(IBS)等镀膜技术,能够针对产品的实际应用需求,为客户制订最经济有效的镀膜方案。  
  这四种镀膜技术各有特点,下表列举了这些技术对各类指标的影响:

 指标

电子束蒸发

离子束辅助沉积

磁控溅射

离子束溅射

 沉积速率

10 Å/sec

10 Å/sec

5 Å/sec

3 Å/sec

 每炉镀制面积

1256~4400cm2

1256~4400cm2

> 4400cm2

650~1250cm2

 抗激光损伤阈值

5 to 30 J/cm2,

20ns

5 to 30 J/cm2,

20ns

10 J/cm2,

20ns

>40 J/cm2,

20ns

 吸收

>100ppm

>50~100ppm

<50ppm

<2ppm

 最大膜层数量

40

60

100

200

 表面粗糙度

<10Å RMS

<8Å RMS

<5Å RMS

<1Å RMS

 致密性

多孔

紧密

致密

非常致密

 牢固度/抗磨损

非常好

超好

 温度漂移

较大

较小

很小

几乎无

 内应力

<20MPa

<50MPa

<100MPa

<100MPa

* 以上数据仅为行业平均数据,并不代表任何特定厂商或特定设备,可能存在例外。

 

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